光學薄膜強度不良的產生原因：

基片與膜層的結合。一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。由于基片表面在光學冷加工及清洗過程中不可避免地會有一些有害雜質附著在表面上，而基片的表面由于光學冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質(如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、拋光粉等，其中水汽為主要)，很難以用一般的方法去除干凈，特別對于親水性好，吸附力強的基片尤其如此。當膜料分子堆積在這些雜質上時，就影響了膜層的附著，也就影響了膜強度。此外，如果基片的親水性差、吸附力差，對膜層的吸附也差，同樣會影響膜強度。硝材化學穩定性差，基片在前加工過程中流轉過程中，表面已經受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層(也許是局部的、極薄的)。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差，膜牢固度不良。基片表面有臟污、油斑、灰點、口水點等，局部膜層附著不良，造成局部膜牢固度不良。

改善對策：

㈠ 加強去油去污處理，如果是超聲波清洗，應重點考慮去油功能，并保證去油溶液的有效性;如若是手擦，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦。

㈡ 加強鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達到300℃以上更好，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水汽、油汽揮發。*注意：溫度較高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰塵。所以，真空室的潔凈度要提高。否則基片在鍍前就有灰塵附著，除產生其它不良外，對膜強度也有影響。(真空中基片上水汽的化學解吸溫度在260℃以上)。但不是所有的零件都需要高溫烘烤，有的硝材溫度高了反而膜強度不高還會有色斑產生。這與應力以及材料熱匹配有較大的關系。

㈢ 有條件時，機組安裝冷凝機(PLOYCOLD)，除提高機組真空抽速外，還可以幫助基片水汽、油氣去除。

㈣ 提高蒸鍍真空度，對于1米以上的鍍膜機，蒸鍍啟動真空應高于3*10-3Pa，鍍膜機越大，蒸鍍啟動真空更高。

㈤ 有條件時，機組安裝離子源，鍍前轟擊，清潔基片表面，鍍膜過程輔助，有利于膜層的密實牢固。

㈥ 膜料的去潮，將待用膜料用培養皿盛放在真空室干燥。

㈦ 保持工作環境的干燥(包括鏡片擦拭、上傘工作區)，清潔工作環境時不能帶入過多的水汽。